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[发明专利]等离子体射流装置-CN201710004355.1在审
发明人：占建英;周如;张俊;张慧文;元淼 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-01-04 - 公布日： 2017-06-16 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子体射流装置，包括外壳，所述外壳上设置有第一入口和第一出口，所述外壳内分布设置有多个放电单元；所述第一入口用于向所述放电单元提供反应气体；所述放电单元用于对所述反应气体进行放电处理，以形成等离子体射流；所述第一出口用于输出所述等离子体射流。本发明提供的等离子体射流装置形成的等离子体通过气流作用形成大面积均匀稳定的等离子体射流，这些阵列式的等离子体射流直接作用于基板，对薄膜晶体管进行刻蚀处理，最终实现放电区域与工作区域分离的薄膜晶体管等离子体刻蚀工艺本发明提供的技术方案具有等离子体粒子活性高、处理速度快，可实现多角度、大面积均匀稳定的低温薄膜晶体管表面刻蚀等优点。
等离子体射流装置

[发明专利]等离子体射流装置-CN200810236697.7有效
发明人：卢新培;熊青;熊紫兰;鲜于斌;潘垣 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2008-12-02 - 公布日： 2009-05-06 - 主分类号： H05H1/30 文献下载
摘要：等离子体射流装置，属于等离子体发生装置，解决现有等离子体射流装置存在的电极不安全或电极和接地之间可能发生电弧放电的问题。本发明易制作、易维护、使用方便、成本低、易于携带，选择不同阻值的电阻和不同电容值的电容，以及不同的驱动电源和工作气体，产生的等离子体射流温度可以不同，等离子体射流温度接近室温时，人体可以与之安全的接触，同时等离子体射流可以具有多种形状，可以同时向各个方向扩散，并可以实现常温常压下大规模大面积的具体应用。
等离子体射流装置

[实用新型]等离子体射流装置-CN200820193468.7无效
发明人：卢新培;熊青;熊紫兰;鲜于斌;潘垣 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2008-12-02 - 公布日： 2009-09-02 - 主分类号： H05H1/30 文献下载
摘要：等离子体射流装置，属于等离子体发生装置，解决现有等离子体射流装置存在的电极不安全或电极和接地之间可能发生电弧放电的问题。本实用新型易制作、易维护、使用方便、成本低、易于携带，选择不同阻值的电阻和不同电容值的电容，以及不同的驱动电源和工作气体，产生的等离子体射流温度可以不同，等离子体射流温度接近室温时，人体可以与之安全的接触，同时等离子体射流可以具有多种形状，可以同时向各个方向扩散，并可以实现常温常压下大规模大面积的具体应用。
等离子体射流装置

[发明专利]尘埃等离子体生成系统-CN201910348396.1有效
发明人：李海龙;龙俊凯;王茂琰;王彬;殷勇;蒙林;袁学松 -专利权人：电子科技大学
申请日： 2019-04-28 - 公布日： 2020-12-01 - 主分类号： H05H1/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种尘埃等离子体生成系统，属于尘埃等离子体领域。该尘埃等离子体生成系统包括尘埃等离子体射流装置；尘埃等离子体射流装置分别与用于将其内部气体喷射至尘埃等离子体射流装置的气体装置、用于电离进入尘埃等离子体射流装置内的气体的电离装置、用于将其内部尘埃喷出与流经尘埃等离子体射流装置的电离后的气体混合而形成尘埃等离子体的尘埃装置及用于对尘埃等离子体进行电子密度检测的密度检测装置连接；气体装置、电离装置、尘埃装置和密度检测装置分别与控制装置连接。
尘埃等离子体生成系统

[发明专利]一种等离子体射流辅助装置-CN201910510186.8在审
发明人：卢新培;吴帆;马明宇 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2019-06-13 - 公布日： 2019-09-06 - 主分类号： H05H1/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子体射流辅助装置，包括：检测控制模块、间隔调整器和接地引流片；检测控制模块与等离子体射流装置中的高压电源输出端连接；间隔调整器顶面开口，位于等离子体射流喷口处，底面分布有通孔和凹槽，等离子体射流装置产生的等离子体射流通过底面通孔流出；接地引流片嵌入所述间隔调整器的底面凹槽中，并与公共地极连接；检测控制模块，用于实时监测等离子体射流装置的电压电流状态，并在发生故障时断开等离子体射流装置的高压电源；间隔调整器，用于控制等离子体射流的长度并固定接地引流片；接地引流片，用于引导放电等离子体电流。本发明能够提高等离子体射流装置的应用安全，同时使离子体阵列均匀放电，提高等离子体性能。
等离子体射流装置等离子体射流间隔调整接地引流片控制模块辅助装置高压电源底面通孔检测等离子体性能放电等离子体输出端连接底面凹槽电压电流发生故障公共地极均匀放电实时监测应用安全离子体喷口处器顶断开嵌入开口流出

[发明专利]一种强度自适应的等离子体射流装置和方法-CN201911101730.X在审
发明人：朱登京;段倩倩;胡兴 -专利权人：上海工程技术大学
申请日： 2019-11-12 - 公布日： 2020-04-03 - 主分类号： H05H1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种强度自适应的等离子体射流装置和方法，包括等离子体产生组件、等离子体射流喷出通道、设置于等离子体射流喷出通道上的电流采集组件以及与电流采集组件连接的控制芯片，所述的控制芯片与等离子体产生组件连接，根据电流采集组件测得的电流，控制等离子体产生组件中电源的功率大小；该装置工作时，所述的等离子体产生组件产生等离子体射流，等离子体射流经过等离子体射流喷出通道喷出，所述的电流采集组件测量通过等离子体射流喷出通道的电流，并输入控制芯片，所述的控制芯片根据输入的电流大小与设定的电流范围，调节等离子体产生组件中电源的功率，与现有技术相比，本发明具有适应性高且产生射流稳定等优点。
一种强度自适应等离子体射流装置方法

[发明专利]等离子体接力装置-CN200810236906.8有效
发明人：熊青;卢新培;熊紫兰;邹菲 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2008-12-19 - 公布日： 2009-05-20 - 主分类号： H05H1/30 文献下载
摘要：等离子体接力装置，属于等离子体发生装置，解决现有等离子体发生装置强度、温度调节范围过窄，工作气体单一的问题；本发明等离子体射流源的等离子体喷出口处安装有1个或多个管状介质容器，各介质容器的气体输入口与等离子体射流源的工作气体源或者多个单独工作气体源相连通；等离子体射流源喷出的等离子体射流与第一个介质容器表面接触；各介质容器等离子体喷出口喷出的等离子体射流与下一个介质容器表面接触，最后一个介质容器等离子体喷出口输出工作等离子体射流。本发明产生强度、温度均可变化的富含活性成份的等离子体射流，特别是常压下产生接近室温的等离子体射流，同时人体可以与之安全的相接触，并适用于多种气体放电。
等离子体接力装置

[发明专利]一种大气等离子体射流加工对刀方法-CN201510771276.4在审
发明人：王波;王骏;苏星;吴言功;张鹏 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2015-11-12 - 公布日： 2016-02-17 - 主分类号： B23K10/00 文献下载
摘要：一种大气等离子体射流加工对刀方法，涉及精密光学加工领域。解决了大气等离子体射流的对刀问题。该方法包括：步骤一、组装大气等离子体射流加工对刀装置；步骤二、安装大气等离子体射流加工对刀装置；步骤三、等离子体射流发射装置发射等离子体射流，调节机床使等离子体射流发射装置与通孔发生相对运动，压强传感器记录等离子体射流产生压强数据，机床控制系统记录大气等离子体射流加工对刀装置的X轴向运动距离和Y轴向运动距离，并根据压强数据、X轴向运动距离和Y轴向运动距离获得X轴方向射流位置X0和Y轴方向射流位置Y0；步骤四、确定等离子体射流中心位置坐标
一种大气等离子体射流加工方法

[发明专利]等离子体射流阵列发生装置及系统-CN202111325271.0在审
发明人：陈支通;白帆;唐天宇;杨广权 -专利权人：深圳高性能医疗器械国家研究院有限公司
申请日： 2021-11-10 - 公布日： 2022-03-15 - 主分类号： A61N1/44 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子体射流阵列发生装置及系统，其中，等离子体射流阵列发生装置包括多个等离子体发生结构，等离子体发生结构用于产生等离子体，多个等离子体包括用于输出等离子体的第一出口，多个等离子体发生结构的第一出口朝向同一方向本发明是一种基于大气压冷等离子体发生器的等离子体射流阵列发生装置，根据情况可以设计不同的外壳，以实现局部的筒型和长方体型冷等离子体射流，以及可弯折的大面积均匀稳定的冷等离子体射流阵列发生系统。
等离子体射流阵列发生装置系统

[发明专利]一种磁场增强等离子体射流的发生装置-CN202210580533.6在审
发明人：卢新培;晋绍珲;聂兰兰 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2022-05-25 - 公布日： 2022-08-02 - 主分类号： H05H7/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁场增强等离子体射流的发生装置，属于低温等离子体领域，包括：等离子体射流发生单元，用于产生等离子体射流，并通过其气体输出管道输出等离子体射流；环形磁铁，环绕设置在气体输出管道的外侧，用于在气体输出管道内产生磁场，且磁场为等离子体射流提供的洛伦兹力的方向与等离子体射流的流动方向一致，以加快等离子体射流的流动速度。解决现有等离子体射流长度偏短、放电不均匀、活性成分浓度不高的问题，保证等离子体的弥散、空间分布的均匀性，增强等离子体中活性氧化物的浓度，提高这些产物在应用中与被处理物品的接触效率，进而提高整个装置的工作效率
一种磁场增强等离子体射流发生装置

[实用新型]一种等离子体射流辅助装置-CN201920886255.0有效
发明人：卢新培;吴帆;马明宇 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2019-06-13 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： H05H1/26 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种等离子体射流辅助装置，包括：检测控制模块、间隔调整器和接地引流片；检测控制模块与等离子体射流装置中的高压电源输出端连接；间隔调整器顶面开口，位于等离子体射流喷口处，底面分布有通孔和凹槽，等离子体射流装置产生的等离子体射流通过底面通孔流出；接地引流片嵌入所述间隔调整器的底面凹槽中，并与公共地极连接；检测控制模块，用于实时监测等离子体射流装置的电压电流状态，并在发生故障时断开等离子体射流装置的高压电源；间隔调整器，用于控制等离子体射流的长度并固定接地引流片；接地引流片，用于引导放电等离子体电流。本实用新型能够提高等离子体射流装置的应用安全，同时使离子体阵列均匀放电，提高等离子体性能。
一种等离子体射流辅助装置

[发明专利]平面射流等离子体产生装置-CN201210245290.7有效
发明人：刘彦明;谢楷;李小平;赵良;艾伟;付强新 -专利权人：西安电子科技大学
申请日： 2012-07-17 - 公布日： 2012-11-14 - 主分类号： H05H1/46 文献下载
摘要：本发明公开了一种平面射流等离子体产生装置，主要解决目前射流等离子产生装置中等离子体稳定性差、温度高、面积小、密度和流速分布不均匀的问题。整个装置包括等离子体产生腔体（2）、电源装置（3）和气压调节装置（5），等离子体产生腔体（2）的左侧和右侧分别与导流装置（1）和等离子体射流腔体（4）连接；导流装置（1）的进气端和等离子体射流腔体（4）的出气端气压调节装置（5）连接，等离子体射流腔体（4）上开有电极通孔和观察窗，用于施加正交电磁二维场；电源装置（3）为等离子产生腔体（2）提供电源。本发明延长了等离子体持续时间，降低了等离子体温度，扩大了均匀等离子体的面积，可用于研究电磁场对射流等离子体的影响。
平面射流等离子体产生装置

[发明专利]一种引入保护气的大气压非平衡等离子体射流装置-CN201810814512.X有效
发明人：张芝涛;刘璞;俞哲;刘蕊;曹慧娟;孙振宇 -专利权人：大连海事大学
申请日： 2018-07-23 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明属于气体放电与应用技术领域，涉及一种引入保护气的大气压非平衡等离子体射流装置。该装置包括大气压等离子体射流枪体和供气供电控制装置；大气压等离子体射流枪体用于产生可利用保护气调控活性粒子成分的大气压非平衡等离子体射流；供气供电控制装置用于为大气压非平衡等离子体射流枪体提供可控的工作气体本发明将保护气体引入到大气压等离子体射流的形成和发展过程中，显著降低大气环境对大气压非平衡等离子体射流的影响，实现大气压非平衡等离子体射流活性粒子成分的有效调控，提升大气压非平衡等离子体射流的应用效果，为大气压非平衡等离子体射流医学及材料表面处理等应用提供一种简便实用的技术装置。
一种引入保护大气压平衡等离子体射流装置

[实用新型]一种引入保护气的大气压非平衡等离子体射流装置-CN201821168753.3有效
发明人：张芝涛;刘璞;俞哲;刘蕊;曹慧娟;孙振宇 -专利权人：大连海事大学
申请日： 2018-07-24 - 公布日： 2019-02-22 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本实用新型属于气体放电与应用技术领域，涉及一种引入保护气的大气压非平衡等离子体射流装置。该装置包括大气压等离子体射流枪体和供气供电控制装置；大气压等离子体射流枪体用于产生可利用保护气调控活性粒子成分的大气压非平衡等离子体射流；供气供电控制装置用于为大气压非平衡等离子体射流枪体提供可控的工作气体本实用新型将保护气体引入到大气压等离子体射流的形成和发展过程中，显著降低大气环境对大气压非平衡等离子体射流的影响，实现大气压非平衡等离子体射流活性粒子成分的有效调控，提升大气压非平衡等离子体射流应用效果，为大气压非平衡等离子体射流医学及材料表面处理等应用提供简便实用的技术装置。
非平衡等离子体射流大气压等离子体保护气射流枪供电控制装置本实用新型保护气体射流装置引入供气材料表面处理应用技术领域高频高电压大气环境调控活性工作气体活性粒子技术装置气体放电应用提供应用效果有效调控可控的粒子医学

[实用新型]大气常压射流低温等离子体技术密封橡胶处理设备-CN201621001161.3有效
发明人：杜官豪;万良淏 -专利权人：南京苏曼等离子科技有限公司
申请日： 2016-08-31 - 公布日： 2017-09-15 - 主分类号： B29C59/14 文献下载
摘要：本实用新型涉及使用大气常压射流等离子体技术的材料表面处理，具体地涉及对密封橡胶的表面处理设备。一种大气常压射流低温等离子体技术密封橡胶处理设备包括柜体，油水过滤装置，至少一个低温等离子体射流发生模块，触摸屏控制柜，进出料口窗口。所述导料辊部件置于低温等离子体射流喷枪固定调整装置上，密封橡胶置于导料辊部件上部的滑轮上，所述低温等离子体射流喷枪固定调整装置包括至少一个低温等离子体射流喷枪，所述各个低温等离子体射流发生模块与相对应的喷枪连接；所述油水过滤装置，低温等离子体射流发生模块，低温等离子体射流喷枪固定调整装置和导料辊部件分别与触摸屏控制柜相连。本装置操作简便、可控性强、处理成本低。
大气常压射流低温等离子体技术密封橡胶处理设备

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